?
Une question

Contactez-nous

Événements

Adhesion '13 Conference
04 Sep 2013 - 06 Sep 2013
National Science Learning Centre, université de York, R-U

K2013
13-23 octobre 2013
Düsseldorf, Allemagne
http://www.k-online.de

Actualités

Chinaplas 2013
Lire la suite…

Plasmaspoted

Le plasma atmosphérique, utilisations et développements
Lire la suite…

Plasmacurtain

Plasma atmosphérique, une préparation de surface pour le plastique
Lire la suite…

Dépôt de couche mince

Le procédé de CVD (chemical vapor deposition) peut être réalisé avec un plasma atmosphérique. Il s'obtient en mélangeant un précurseur organique dans le plasma. La réaction permet de déposer un film mince homogène sur une surface.

Les applications de cette technique sont nombreuses et encore peu explorées. Les couches déposées apportent de nouvelles fonctionnalités aux matériaux revêtus. Le type de couche est choisi selon les applications visées. On peut, par exemple, rendre une matière plastique plus résistante à l'abrasion, déposer une couche barrière aux gaz, appliquer une couche anticorrosion sur une surface métallisée ou encore implanter des fonctions optiques sur des surfaces.

AcXys Technologies apporte son expertise et ses moyens aux entreprises afin de développer de nouvelles applications de ce procédé. Leur soutien est une ressource précieuse pour les entreprises qui souhaitent bénéficier de ces procédés avancés.


Dépôt de SiO2 sur wafer en Silicium